設備簡介
本設備是高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析的理想設備。
 
應用領域
半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)領域。
技術參數
設備名稱：1200度管式爐
設備型號：TF1200-100
爐管材質：石英管
爐管尺寸：100mm*1000mm（管徑*管長）
加熱區(qū)尺寸：440mm
恒溫區(qū)尺寸：200mm
極限溫度：1200度
工作溫度：≤1100度(連續(xù))
工作電源：單相 220V 50/60Hz 4Kw
 
加溫
加熱元件：優(yōu)質電阻絲，環(huán)形加熱。
升溫速率：10-15℃/min
 
測溫
測溫元件：N型熱電偶
 
控溫
溫控儀表：數顯儀表，智能化30段PID可編程控制。
控溫精度：±1℃，超溫報警
 
保溫
保溫材料：多晶氧化鋁纖維材料，保溫效果好，熱能損耗少。
 
充氣正壓：≤ 0.02MPa
可通氣體：惰性氣體和還原性氣體等。
 
法蘭（爐管兩端配有不銹鋼密封CF法蘭，包括精密針閥、指針式真空壓力表、軟管接頭，若有特殊需求，可選配以下法蘭）
1、聚四氟乙烯法蘭，用于有腐蝕環(huán)境。
2、水冷法蘭，用于更好防止密封圈老化。
3、KF法蘭，用于更高真空需求。
 
真空（根本實際需要選配以下不同真空泵或真空系統）
1、標準旋片式機械真空泵，直插接口，極限真空可達50Pa。
2、DZK10-1低真空系統，KF接口，極限真空可達1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系統，KF接口，極限真空可達1*10-3Pa。
 
打開方式：封閉式，爐管從兩側插入。
外形尺寸：1000*406*505(寬*深*高)mm
包裝尺寸：1300*600*700mm
設備凈重：70Kg
包裝毛量：130kg
設備包箱：木箱+珍珠棉+防塵膜
發(fā)貨物流：送貨上門，不含卸貨。
質  保  期：一年，相關耗材除外，如加熱元件等易耗件
  
 
非標定制：
我廠可根據客戶要求定制非標爐型，來滿足客戶實驗工藝，如您對實驗工藝不是很了解，也可寄樣品到我廠，本廠 |
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