真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過(guò)程：
（1）加熱蒸發(fā)過(guò)程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^(guò)程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過(guò)程。
（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過(guò)程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長(zhǎng)，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過(guò)程。
用于真空離子蒸鍍的設(shè)備
真空蒸發(fā)鍍膜法（簡(jiǎn)稱真空蒸鍍）是在真空條件下，加熱蒸發(fā)容器中待蒸發(fā)的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入社到襯底或基底表面，凝結(jié)成固態(tài)薄膜的方法。
蒸鍍金屬（選Single Pulse模式）
1.將要蒸發(fā)的基底材料洗干凈放在蒸發(fā)頭下面的基板上。
2.將要蒸發(fā)的金屬用鑷子團(tuán)成球形放入鎢籃中。
3.將蒸發(fā)頭裝在儀器蓋上，插好電線，打開(kāi)儀器電源開(kāi)關(guān)。將氮?dú)怃撈康拈_(kāi)關(guān)旋開(kāi)，使流量控制在0.035Mpa左右。
4.按“ENTER”按鈕設(shè)置儀器參數(shù)。如果選擇“Single Pulse”模式，其余參數(shù)不需要設(shè)置，值設(shè)置除氣時(shí)間，在0～60秒內(nèi)調(diào)節(jié)。
5.然后按“START”鍵儀器開(kāi)始抽真空。
6.等儀器進(jìn)入泵保持狀態(tài)，真空度達(dá)到9×10-5mbar是，可進(jìn)行下一步操作。由于鋁比較容易氧化，蒸鋁時(shí)至少要在泵保持進(jìn)行30分鐘之后才能進(jìn)行下一步操作。
7.按“START”鍵。
8.按“△”鍵儀器開(kāi)始除氣。主要除去要蒸發(fā)的金屬材料表面的一些污垢等。操作時(shí)要小心的向右旋下面的黑色按鈕，當(dāng)“Current”顯示為8是要通知旋動(dòng)，稍等片刻鎢籃會(huì)發(fā)紅，開(kāi)始除氣。除氣持續(xù)10秒左右然后將旋鈕向左旋到底。
9.然后按“▽”鍵儀器進(jìn)入蒸發(fā)狀態(tài)。
10.蒸鍍完畢后，按“STOP”鍵，停止抽真空，打開(kāi)蓋子取出樣品，關(guān)閉主機(jī)電源盒氣源。 |
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