※應用領域：
CNT生產(chǎn)的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質(zhì)量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調(diào) ) ，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產(chǎn)不可缺少的設備。
※產(chǎn)品描述：
CNT公司PECVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統(tǒng)，電源，生長機體載體及溫控系統(tǒng)，獨立排氣和生長壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。
※技術指標：
參 數(shù) 名 稱 單 位 配置
沉積類型 二氧化硅，氮化硅，類金剛石等
電 源 射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器
加熱系統(tǒng) 平板式雙反應室系統(tǒng)，帶加溫和勻氣系統(tǒng)
工 作 溫 度 ℃ 100~600℃
基片臺尺寸 (φ×H)mm 1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
基片臺轉(zhuǎn)速 轉(zhuǎn)速0-20RPM
控 溫 精 度 ℃ ±1
極限真空 pa 8.0×10-5
密封系統(tǒng) 磁流體密封
水冷、氣路系統(tǒng) 冷卻水循環(huán)機、無噪聲氣泵
報警及保護 對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施
真空系統(tǒng)
（選 配） 真空系列 單級機械泵、擴散泵機組、分子泵
工作腔體 不銹鋼
氣氛系統(tǒng) 浮子流量計、進口、國產(chǎn)質(zhì)量流量計
記錄裝置 進口、國產(chǎn)無紙記錄儀
備注：西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標產(chǎn)品的設計制造，歡迎來函、來電咨詢！
24小時熱線：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223
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